電子行業(yè)超純水設備是用于制備電阻率≥18.5 MΩ·cm（25℃）、雜質含量極低（如TOC≤5 ppb、顆粒≤1個/ml）的高純度水的關鍵系統(tǒng)，廣泛應用于半導體、集成電路、液晶顯示、光伏電池等電子元器件的生產過程中。

1. 預處理階段

多介質過濾器：去除懸浮物、膠體、顆粒。

活性炭過濾器：吸附有機物、余氯。

軟化器：通過離子交換樹脂去除鈣鎂離子，防止結垢。

精密過濾器：5μm濾芯進一步截留微小顆粒。

2. 初級純化（RO反滲透）

一級反滲透（RO）：脫除98%以上的離子、有機物和微生物，產水電導率≤10 μS/cm。

二級反滲透（RO）：提高脫鹽率至99.5%以上。

3. 深度純化

EDI（電去離子）：結合離子交換膜和電場作用，無需酸堿再生，產水電阻率可達5-15 MΩ·cm。

混床離子交換：進一步將電阻率提升至18.5 MΩ·cm。

4. 終端精處理

UV紫外殺菌：185nm/254nm紫外線降解TOC并滅菌。

5. TOC去除系統(tǒng)

TOC脫除器通過紫外光的照射和氧化反應，將水中的有機污染物轉化為二氧化碳和水等無害物質，從而實現(xiàn)有機污染物的去除。

全自動化控制：PLC+觸摸屏，實現(xiàn)自動運行、沖洗、報警。

零排放設計：濃水回用，符合環(huán)保要求。

模塊化結構：便于擴展和維護。

低能耗設計：如能量回收裝置（ERD）降低RO能耗。

電阻率：≥18.5 MΩ·cm（25℃）

TOC（總有機碳）：≤1-5 ppb

顆粒物：≤1個/ml（粒徑≥0.1μm）

微生物：≤0.1 CFU/ml

離子含量：Na?、Cl?等≤0.01 ppb

溶解氧：≤1 ppb